화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 Study of Slurry pH and Oxidizer on Ge-doped SbTe for High Speed PRAM CMP
Jun-Hee Shin, Jong Woong Baek, Sang Hwa Woo, Jin Hyung Park, Jea Gun Park
한국재료학회 2013년 가을 학술대회
3 Study of Slurry pH and oxidizer on Ge-doped SbTe film in PRAM CMP
Soo-Beom Kima, Jong-Young Cho, Jae-Hyung Lima, Hee-Sub Hwang, Jin-Hyung Park, Eung-rim Hwang, Jea-Gun Park
한국재료학회 2012년 가을 학술대회
2 Effect of anionic polyelectrolyte on Alumina dispersions for Ru chemical mechanical polishing
R. Prasanna Venkatesh, S. Noyel Victoria, Tae-Young Kwon, Jin-Goo Park
한국재료학회 2011년 가을 학술대회
1 Cu-CMP에서 슬러리 첨가제에 따른 Cu와 TaN의 선택비 거동|Effect of Additive on Cu/TaN Selectivity in Cu-CMP
홍석훈, 송 철, 김재욱, 김민석, 박재근
한국재료학회 2005년 봄 학술대회