번호 | 제목 |
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Comparative study on ALD-WNx process using NH3 plasma and N2/H2 plasma 김준범, 김수현, 홍태은, 유범상 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Investigation of WN growth by Atomic Layer Deposition using a new precursor ; (t-BuN)2(NMeEt)2W 김은정, 김도형 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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분자체촉매TS(Titanium Silicalite)의 젤형성과정 및 결정성이 시클로헥산의 산화반응 에 미치는 영향|Effect of Gelation and Crystallinity of molecular sieve catalyst TS in the oxidation of cyclohexane 박외숙, 남상성, 김성보, 이규완|Oei-Suk Park, Sang-Sung Nam, Seong-Bo Kim, Kyu-Wn Lee 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |