| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 2 |
유기물 제거를 위한 Post Cu CMP 세정 용액 개발 권태영, Y. Nagendra Prasad, R. Prasanna Venkatesh, 박진구 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
| 1 |
Post Ru CMP Cleaning for Alumina Particle Removal Y. Nagendra Prasad, Tae-Young Kwon, In-Kwon Kim, Jin-Goo Park 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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유기물 제거를 위한 Post Cu CMP 세정 용액 개발 권태영, Y. Nagendra Prasad, R. Prasanna Venkatesh, 박진구 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Post Ru CMP Cleaning for Alumina Particle Removal Y. Nagendra Prasad, Tae-Young Kwon, In-Kwon Kim, Jin-Goo Park 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |