화학공학소재연구정보센터
번호 제목
9 N2/He Plasma Inhibitor 개발을 통한 공간 분할 PE-ALD시스템에서의 메모리 Gap-fill공정 설계
이백주, 서동원, 황재순, 최재욱
한국재료학회 2021년 봄 학술대회
8 Advanced Metallization of Contact Fill Tungsten Thin Film Process with Controllable Growth System
김태성, 최석규, 박홍기, 선우훈, 김동우, 박진우, 권주연, 이건정, 윤원준, 전진호
한국재료학회 2021년 봄 학술대회
7 Introduction of BARC and UL for Photolithographic Process: Optical and Chemical Interactions at Interfaces of Polymer Thin Films
Jae Hwan Sim, 이정준, 안재윤, 임수정, 강유진, 정기정, 김수웅, 배영은, 임재봉
한국공업화학회 2021년 봄 학술대회
6 Study on interaction between ceria and various silicon-based wafers for brand-new semiconductor cleaning process
명경규, 변진욱, 임태호, 김재정
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
5 신규 가교제를 이용한초저유전화 고강도 실세스키옥산 매트릭스의 개발
오성연, 최승석, 이희승, 황승상, 최형민, 백경열
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회
4 Role of Hydrogen Plasma Pretreatment on Superconformal Nanoscale Gap-Filling of Cu-Al Alloy
문학기, 이내응
한국재료학회 2010년 가을 학술대회
3 CVD를 이용한 Cu 증착 시 plasma 전처리로 인한 구조적 특성의 비교 분석
진성언, 변동진, 이승무, 박지훈, 이도한, 최종문, 김창균, 정택모
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
2 New Additive Free High Selective Slurry 기본 연마 특성소개
최용수
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
1 STI CMP용 나노 세리아 슬러리에서 계면 활성제 분자량의 영향|Effects of molecular weight of surfactant in Nano Ceria Slurry on Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
이명윤, 강현구, Takeo Katoh, 박형순, 백운규, 박재근
한국재료학회 2004년 봄 학술대회