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Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
이철희, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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Level set 방법을 이용한 실리콘 식각 프로파일 모사|Simulation of Silicon Etch Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method
임연호, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Level Set 방법을 이용한 GaN 식각 프로파일 모사|Simulation of GaN Etched Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method
임연호, 박진수, 최창선, 한윤봉|Yeon Ho Im, Jin Soo Park, Chang Sun Choi, Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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고밀도 플라즈마 식각 반응기의 Sheath dynamics해석|Mathematical Modeling of Sheath Dynamics in High Density Plasmas
임연호, 박진수, 최창선, 한윤봉|Yeon Ho Im, Jin Soo Park, Chang Sun Choi, Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 반도체 재료 식각기술|Etching Technology of Semiconductor Materials in High Density Plasmas
한윤봉|Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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Level Set 방법을 이용한 고밀도 플라즈마 식각 프로파일 모델링|Mathematical Modeling of Etched Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method
임연호, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Lim, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
