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Synthesis and Photolithographic Characterization of Novel Phenolic Molecular Resist with High Glass Transition Temperature
문정석, 오현택, 이진균
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
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The Effect of Macromolecular Architecture on the Performance of Photoresists for Advanced Semiconductor Manufacture
George G. Barclay
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Formation of stains from evaporating water droplets on polymer surfaces in immersion lithography
김정훈, 안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2007년 봄 학술대회 |
| 7 |
Recent Patterning Technology for the Sub 80nm Node Size in Semiconductor Device
김재현, 최남욱, 오준석, 김영호, 김태성
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
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The Investigation of Defect Generation by Water Droplet on the Chemically Amplified Photoresist
김정훈, 안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
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The effect of water-contact and evaporation on the roughness of photoresist for immersion lithography
안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
| 4 |
Photoresist for 193nm Immersion Lithograhpy, Applicable for the Resist Reflow Process
김상진, 박주현, 김경문, 서동철, 조승덕, 주현상, 송지영, 임현순, 권민원, 김진호
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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Nano Transfer Printing 를 이용한 6inch Si wafer에서의 금속 패턴 형성 연구
김종우, 이헌
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Effect of water-contact on the roughness of patterned photoresist investigated by AFM analysis
안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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복제한 PDMS stamp를 이용한 NIL pattern의 특성 연구|PDMS stamp duplication @ NIL pattern morphology research
양기연, 홍성훈, 이헌
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
