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Composition Ratio Effect on CdTe Channel Device Synthesized by Solution Process
Jaekyeong Jeong, Azida binti Azmi
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Atomic Layer Deposition of Al2O3 thin films using a new metallorganic precursor.
장병현, 이현정, 홍태은, 장동학, 여소정, 박정우, 김수현
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Comparative study on ALD-WNx process using NH3 plasma and N2/H2 plasma
김준범, 김수현, 홍태은, 유범상
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Fabrication and characterization of Bi2Te3 thermoelectric films by using plasma-enhanced chemical vapor deposition technique
Chang Wan Lee, Seong Gu Kang, Yoon Jang Chung, Hyung Jun Kim, Young Kuk Lee
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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MOCVD법을 이용한 Ag+이온이 혼입된 TiO2 film의 합성 및 광분해 특성
황철호, 박주영, 김주일, 오일홍, 이주헌, 이인화
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
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Room-Temperature Ferromagnetism of Undoped- and Doped-TiO2-δ Nanobelts Grown by Metallorganic Chemical Vapor Deposition
Nguyen Thi Quynh Hoa, Zonghoon Lee, Velimir Radmilovic, Eui-Tae Kim
한국재료학회 2008년 가을 학술대회 |
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Visible-Light Photocatalysis of Sr-Doped TiO2-δ Nanobelts Synthesized by Chemical Vapor Deposition
웬티깅화, 강승희, 김의태
한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
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Dichlorobis[bis(trimethylamido)]hafnium과 물을 이용한 Hafnium Silicate의 단원자층 화학증착
남원희, 강상우, 이시우, 이정현, Steven. M. George
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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금속유기화학기상증착법으로 증착된 Co-O-N 박막을 이용한 CoSi2 에피층 성장|Growth of epitaxial CoSi2 using Co-O-N films deposited by metallorganic chemical vapor deposition
김선일, 이승렬, 안병태
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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CVD법으로 제작한 (1-x)Ta2O5–xTiO2 박막의 열처리 온도에 따른 특성변화|Characteristics of (1-x)Ta2O5–xTiO2 thin film at various annealing temperature by CVD
강필규, 진정근, 강호재, 노대호, 안재우, 변동진
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
