화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 Poly Si Wafer의 표면 특성변화에 따른 CMP 공정 후 오염 Mechanism의 규명
강봉균, 박진구, 강영재, 조병권, 홍의관, 한상엽, 윤성규, 윤보언, 홍창기
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
3 Contemporary organic contamination levels in digested sludge from industrial wastewater treatment plants : Polycyclic aromatic hydrocarbon
이강영, 이현경, 홍기훈
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회
2 Contemporary organic contamination levels in digested sludge from industrial wastewater treatment plants : Volatile organic compound
이강영, 이현경, 홍기훈
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회
1 UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정|UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정
이종무
한국재료학회 2004년 가을 학술대회