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Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol 이유종, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol 선은재, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas 이유종, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas 선은재, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Effect of mixing ratio in SiO2 etching using hydrofluoroether plasmas 선은재, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각 유상현, 김창구 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Plasma etching of SiO2 using perfluoropropyl vinyl ether 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
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CMS 중공사막의 제조 및 이를 이용한 불화가스 분리 및 회수 김세종, 고형철, 하성용 한국공업화학회 2014년 봄 학술대회 |
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Deep Si Etching using SF6/C4F8 and SF6/C4F6 Plasmas 권혁규, 박병훈, 우상호, 김창구 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |