화학공학소재연구정보센터
번호 제목
15 Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol
이유종, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
14 Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol
선은재, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
13 SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas
유상현, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
12 Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas
이유종, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
11 Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas
선은재, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
10 Effect of mixing ratio in SiO2 etching using hydrofluoroether plasmas
선은재, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
9 Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각
유상현, 김창구
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회
8 Plasma etching of SiO2 using perfluoropropyl vinyl ether
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회
7 CMS 중공사막의 제조 및 이를 이용한 불화가스 분리 및 회수
김세종, 고형철, 하성용
한국공업화학회 2014년 봄 학술대회
6 Deep Si Etching using SF6/C4F8 and SF6/C4F6 Plasmas
권혁규, 박병훈, 우상호, 김창구
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회