화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Chemical vapor deposition of TaCxNy films using tert-butylimido tris-diethylamido tantalum (TBTDET) : Reaction mechanism and film characteristics
Suk-Hoon Kim, Shi-Woo Rhee
한국재료학회 2009년 가을 학술대회
2 Oxidation behavior of HfC and TaC
이상보, 이승준, 김도경
한국재료학회 2009년 가을 학술대회
1 Densification and Oxidation behavior of HfC and TaC
이상보, 이승준, 김도경
한국재료학회 2009년 봄 학술대회