화학공학소재연구정보센터
번호 제목
6 Very High Frequency Plasma - Enhanced 원자층 증착법을 통한 순수 코발트 박막 특성 연구
송창훈, 염원균, 이수정, 탁현우, 변지영, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
5 VHF 플라즈마 소스를 이용한 PE-ALD 유전층 증착 공정 및 플라즈마에 의한 데미지 개선
오일권, 김태형, 염근영, 김강식, 이종훈, 이한보람, 김형준
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
4 Multi-tile Push-pull Plasma Source 를 이용한 VHF (162 MHz)-PECVD 의 Silicon Nitride 증착 연구
김기석, 김기현, 지유진, 염근영
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
3 Unprecedented Method of Epitaxy Silicon Growth at 200 °C using Very High Frequency Plasma Enhanced Vapor Phase Epitaxy
김가현, 홍지은, 김남우, 윤현, 조임현, 서관용, 김동석
한국공업화학회 2016년 가을 학술대회
2 Effect of Growth Conditions on The Crystallinity of Silicon Film on Carbon Fiber Grwon by PECVD
채을용, 이규민, 정주영, 김태호, 손현철
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
1 CCP (Capacitively Coupled Plasma)-type Reactor에서 VHF (Very High Frequency) Generator를 이용한 ACL (Amorphous Carbon Layer)에 관한 식각 특성연구
권용현, 신경섭, 황기현, 염근영
한국재료학회 2014년 가을 학술대회