| 초록 |
인산은 화학비료, 화학약품, 식료품, 광학렌즈와 세라믹스용 알루미나, 금속 알루미늄 및 TFT-LCD, 반도체의 에칭액 등의 다양한 분야에 사용되고 있으며, 최근 들어 식품 및 반도체 산업의 요구에 따라 이를 고순도화하는 연구가 다양한 방법으로 수행되고 있다. 본 연구는 인산를 고순도로 정제하기 위한 한 방법으로 경막형 용융결정화기를 사용하여, 불순물이 함유되어 있는 인산원료를 결정화기 벽면에 냉각하는 방법으로 결정을 형성시키고 이어서 형성된 결정표면에 부착되어 있는 불순물을 효율적으로 제거하기 위해, 미량의 계면활성제 및 킬레이트 형성제를 포함한 용액으로 결정표면에 분사시키는 방법에 의해 불순물을 효율적으로 제거하는 방법과 세정탑(wash column)을 복합화한 방법을 실시하였으며, 불순물의 제거정도는 ICP에 의해 측정하였다. 그 결과, 용융결정화 방법만을 사용한 인산정제는 유효분배계수가 0.28~0.4범위였으나, 용융결정화 후 세정탑을 통과하는 방법에 의해 유효분배계수를 015~0.2로 낮출 수 있었으며, 첨가제를 일부 포함한 분사세정을 병용한 방법에 의해 유효분배계수를 0.08~0.12정도로 더욱 낮출 수 있음을 알 수 있었다. |
