| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교) |
| 권호 | 8권 2호, p.5170 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | SiH₄플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실헙적 분석 |
| 초록 | 본연구는 반도체 박막 제조공정에서 많이 사용되고 있는 SiH₄플라즈마 반응기에서의 미립자 오염을 공정 변수 변화에 따라 실헙적으로 분석하였다. 미립자들은 시간이 지남에 따라 입자들끼리 충돌하여 성장하였고 작은 입자 그룹과 큰 입자 그룹으로 나뉘어 존재하였다. 또한 SiH₄농도와 반응기내 압력은 입자 생성에 매우 민감함을 알 수 있었다. |
| 저자 | 홍성택, 김동주, 김교선 |
| 소속 | 강원대 |
| 키워드 | PCVD(Plasma Chemical Vapor Deposition); SiH₄; Particle Growth |
| 원문파일 | 초록 보기 |
