| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교) |
| 권호 | 7권 1호, p.161 |
| 발표분야 | 공업화학 |
| 제목 | 선택성이 우수한 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논의 제조방법 |
| 초록 | 자외선 자체를 흡수하여 고분자의 자외선에 의한 분해를 막는 물질로서 광 안정제가 있다. 보통 고분자 성형가공시 자외선 흡수제를 첨가하여 사용한다. 일반적으로Benzophenone 계열, Benzotrazole 계열이 주로 사용되며, 자외선 흡수의 범위는 290 - 400 nm이다. 그 중 Benzophenone 계열의 장점은 고분자에 첨가 시 색변화가 거의 없어 투명 고분자등에 많이 사용되어지고 있는데, 이 Benzophenone 계열의 광안정제의 광안정 기본원리는 자외선 조사시 Benzophenone 분자내 수소결합이 이동하며, 이에 따라 자외선을 흡수한 다음(자외선 흡수 범위: 290 - 380 nm) 흡수한 자외선를 다시 열로서 변화시킴으로서 고분자의 광분해를 막는다. 광안정제의 조건으로 첫째 성형 가공 시 첨가되어 사용되므로 성형후 고분자내의 고른 분포를 위해 고분자에 대한 용해도가 좋아야한다. 둘째 고분자의 성형 가공 시 높은 온도에 의한 증발이 적어야한다. 셋째 자외선 흡수제 자체가 고분자에 반응성이 있어서는 안된다. 넷째 인체에 해롭지 않아야 한다. 다섯째 경제성 등이 있다. 그중 Benzophenone 계열의 광안정제 주된 단점인 높은 성형 온도에 의해 증발되어 기계를 부식, 오염시키며, 높은 온도, 낮은 압력에서 증발과 승화가 일어나는 것을 방지하고, 고분자에 대한 용해도가 좋게 하기 위하여, 현재 상용으로는 4위치의 하이드록시기에 선택적으로 길이가 긴(주로 옥틸기) 알킬기를 치환시킨 제품을 개발하였다. 그러므로 본 연구에서는 Benzophenone 계열의 광안정제의 제조의 핵심인 2,4-하이드록시벤조페논의 4위치(2위치나 2,4위치의 하이드록시기에 동시에 알킬기가 치환된 것은 광안정제의 효과가 없음.)에 하이드록시기에 선택적으로 알킬기를 치환하는 새로운 합성방법에 대해 고찰하였다. |
| 저자 | 박대철, 백진욱, 박양진 |
| 소속 | 한국화학(연) |
| 키워드 | 광안정제; 2-하이드록시-4-옥틸벤조페논; 2; 4-하이드록시벤조페논 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
