화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2009년 봄 (04/23 ~ 04/24, 광주 김대중컨벤션센터)
권호 15권 1호, p.830
발표분야 재료
제목 Characteristics of double cylindrical coils as aninductively coupled plasma source
초록 반도체 산업의 발달로 인하여 반도체 소자의 크기는 점점 작아지는 반면 웨이퍼의 크기는 점점 커지고 있다. 이와 같이 거대화 된 웨이퍼를 사용하는 공정의 핵심은 높은 균일도의 플라즈마를 유지하는 것이다. 본 연구에서는 유도결합 플라즈마(inductively coupled plasma, ICP)의 플라즈마 균일도를 높게 유지하기 위하여 새로운 플라즈마 발생원을 고안하여 그 특성을 분석하였다. 기존의 원통형 ICP에서는 단일 코일이 quartz cylinder 주위를 나선형으로 감싸고 있었는데 본 연구에서 고안된 플라즈마 발생원은 두 개의 코일이 서로 교차되며 quartz cylinder 주위를 감싸는 이중 나선형 구조이다. 이 이중 나선형 플라즈마 발생원은 수치유체역학(computational fluid dynamics, CFD) 프로그램으로 전산모사하여 기존의 단일코일 소스와 비교하였다. 이 때 플라즈마 포텐셜(plasma potential), 이온밀도(ion density), 전자온도(electron temperature)를 비교하여 새롭게 고안된 플라즈마 발생원의 특성을 분석하였다.
저자 신우식1, 김창구1, 김일욱2, 우상호2, 엄평용2
소속 1아주대, 2(주)유진테크
키워드 ICP; CFD; PLASMA; cylindrical coils
E-Mail
원문파일 초록 보기