화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2019년 가을 (10/30 ~ 11/01, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU))
권호 23권 2호
발표분야 포스터_에너지저장·변환
제목 유기 포토디텍터에서 전자 차단 층으로 사용된 고유전 물질인 HfOx박막의 터널링 효과 연구
초록 이 연구에서는 Organic Photodetector(OPD)에서 전자 차단 층으로 사용된 HfOx 박막의 Tunneling effect를 연구하였다. 이 OPD는 ITO / HfO2 / P3HT : PC60BM / Yb / Al로 구성되었으며 Hafnium Oxide 박막의 두께에 따른 Tunneling effect를 확인하기 위해, successive ionic layer deposition(SILD)을 사용하여 박막을 제조하였다. Hafnium Oxide의 성능은 OPD에서 전자 차단 층으로 많이 사용되고 있는 PEDOT : PSS 및 다른 금속 산화물인 Aluminum Oxide와 비교하였다. 본 연구를 통해 제작된 Hafnium Oxide가 사용된 OPD는 낮은 leakage current와 Tunneling Effect로 인한 높은 photocurrent를 보였다. Hafnium Oxide 박막의 두께가 5.5nm 일 때 ~ 102 kHz의 대역폭과 1.76 x 1012 Jones의 검출능을 달성하였다.
저자 김우성, 오세용
소속 서강대
키워드 Organic Photodetector; Hafnium oxide; Tunneling effect
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