| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1998년 가을 (10/23 ~ 10/24, 조선대학교) |
| 권호 | 4권 2호, p.3825 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | FeaSibCcHd 박막의 물리·화학 및 광학적 특성 |
| 초록 | 본 연구에서는 불순물이 적은 저압공정에서 수행하는 rf-plasma chemical vapor deposition(CVD)법을 이용하여 철 전구체와 실란을 동시에 주입하고 기상에서의 결합반응을 유도하여, iron silicide 막을 성장시키기 위한 기본적인 물리·화학적 특성을 알아보고,플라즈마 발생 변수인 출력, 희석비 등의 실험조건에서 형성된 iron silicide(FeaSibCcHd)막에 포함된 탄소와 수소에 의해 적외선 영역과 UV영역에서의 광학적 특성에 미치는 영향으로부터 막 특성을 평가하여, 열처리를 수행하지 않고도 높은 에너지를 갖는 플라즈마에의해 탄소와 수소가 결합된 β-상의 iron silicide가 형성될 수 있음을 확인하고자 하였다. |
| 저자 | 김경수, 윤용수, 김정규, 정일현 |
| 소속 | 단국대 |
| 키워드 | Iron silicide; Band gap; Optical gap energy; Urbach tail; The number of defect |
| 원문파일 | 초록 보기 |
