| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2019년 가을 (10/09 ~ 10/11, 제주컨벤션센터) |
| 권호 | 44권 2호 |
| 발표분야 | 고분자가공/복합재료 |
| 제목 | 광개시제 종류에 의한 I-line용 포토레지스트 미세 패턴 특성 구현 |
| 초록 | 최근 디스플레이 산업은 크게 TV용 디스플레이, 노트북 및 컴퓨터 모니터용의 중소형 디스플레이와, 10인치 이하의 모바일 디스플레이 시장으로 크게 나누어지고 있다. 디스플레이 시장은 해마다 고해상도의 제품을 요구함에 따라 TFT-LCD의 집적도가 향상되어야 하는 과제를 안고 있으며, LCD의 가격 하락으로 인해 생산원가를 낮추어야 하는 목표를 가지고 있다. 본 연구에서는 I-line용 포토레지스트의 미세 패턴을 구현하기 위해서 광개시제의 종류를 변화시켜 가며 미세 패턴의 특성을 확인하였다. 광개시제 종류의 구조에 따른 입체효과로 노광시 광개시제의 확산 속도의 차이가 생기고 결과적으로 프록시 노광기 사용시 회절광에 의해 패턴 크기가 커지는 것을 줄일 수 있다. 최종적으로, 임계차수 바이어스는 광개시제의 종류를 변화시킴으로써 기존보다 6㎛ 이상 감소 시켰다. |
| 저자 | 김선형, 이덕희, 한미정 |
| 소속 | 삼양사 |
| 키워드 | 디스플레이; 포토레지스트; 미세 패턴; 광개시제 |
