| 초록 |
ZnO nanorod는 UV 및 가스 센서, LED, 태양전지, 디스플레이 등 다양한 분야에서 응용 가능한 물질이다. 이러한 다양한 분야에 이용되는 ZnO nanorod의 경우 대체적으로 낮은온도에서의 성장과 좋은 crystal quality를 요구한다. 이러한 ZnO nanorod를 성장시키기 위해 MOCVD, sputtering, aqua solution 등 다양한 방법이 이용되고 있다. 본 연구에서는 epitaxial 성장을 위해 MOCVD를 이용하여 ZnO nanorod를 성장 시켰으며 효율적으로 공정온도를 낮추기 위하여 2 step으로 성장되었다. 첫 번째 스텝에서는 공통적으로 465℃에서 10분 동안 성장하였고, 두 번째 스텝은 300℃~465℃까지 20분 동안 성장하여 다양한 온도 조건에 따라 crystal quality를 비교하였다. SEM을 통하여 Morphology를 nanorod의 성장을 확인하였고 X-ray diffraction, PL 등을 이용하여 두 번째 스텝에서 400℃까지 crystal quality가 465℃에서 30분 동안 성장된 것과 근사함을 확인하였다. |
