| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2012년 가을 (10/31 ~ 11/02, 대전컨벤션센터) |
| 권호 |
16권 2호 |
| 발표분야 |
대기오염처리(non-CO2(메탄, 불화가스, 아산화질소) 저감기술 연구동향) |
| 제목 |
촉매 및 고이온화 에너지를 이용한 반도체 산업 에칭 공정 Non-CO2 가스 (SF6) 처리 친환경 대용량/고효율 시스템 개발 |
| 초록 |
반도체나 LCD제조 공정 중 사용되는 프레온은 높은 지구온난화지수(GWP)를 가지고 있는 물질로 근래의 지구 온난화에 큰 영향을 끼치는 물질로 본 연구에서는 기존의 연구에서 다루지 않았던 고이온화 에너지를 이용하여 반도체 에칭 공정에서 발생되는 SF6 가스를 안정적으로 처리하고 이온화 처리 과정에서 발생되는 2차 부산물을 효과적으로 처리하기 위한 차세대 대용량(3,000 LPM 규모) 하이브리드 non-Co2 가스 처리 기술을 개발하는 연구임. 구체적인 연구 내용으로는 SF6의 안정적인 처리기술 개발(고이온화 에너지를 이용한 활성화/ 상대적으로 저온에서의 촉매 분해)과 전처리 및 2차 부생물 처리 기술 확보 와 안정적인 처리기반 구축 (95% 이상)을 목표로 하고 있음. |
| 저자 |
윤종필 |
| 소속 |
중앙플랜트 |
| 키워드 |
고이온화 에너지; 에칭 공정; SF6
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| E-Mail |
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