| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2014년 가을 (11/27 ~ 11/28, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 20권 2호 |
| 발표분야 | F. 광기능/디스플레이 재료(Optical Functional and Display Materials) |
| 제목 | OLED 수분차단막으로써 사용하기 위한 산화 알루미늄의 원자층 박막 증착 공정법 |
| 초록 | 현재 OLED 디스플레이는 기존의 딱딱한 유리기판에서 벗어나, 유연성 있는 폴리머 기판 위에서 소자를 구현하기 위한 많은 연구가 진행 중이다. 이러한 유연기판은 유리기판에 비해 상대적으로 낮은 유리 전이 온도 (glass transition temperature)를 지니기 때문에 수분 차단막을 제작하기 위해서는 저온공정을 반드시 필요로 한다. 기존의 CVD의 경우 상대적으로 우수한 수분 차단막으로써의 성능을 기대하기 위해서는 상대적으로 높은 온도를 필요로 하기 때문에 유연기판에 적용하기 불가능하다. 또한 sputtering 과 같은 물리적 기상 증착법을 이용할 경우, 플라즈마로 발생한 고에너지 입자로 인한 기판 손상과 같은 문제가 발생할 수 있다. 이러한 기존 방법과는 달리, 원자층 박막 증착법(atomic layer deposition, 이하 ALD)를 이용한 박막 증착은 기판 표면에서 발생하는 화학 반응을 통해 박막이 형성되므로, 적절한 전구체를 사용함에 따라 저온에서 기판의 손상 없이 박막을 형성할 수 있다는 장점이 있다. 또한 반응성이 높은 반응물을 이용함에 따라 우수한 박막을 저온공정을 통해 얻을 수 있다는 점 또한 ALD가 OLED 의 봉지화 연구로 각광받는 이유 중 하나이다. 본 연구에서는 OLED encapsulation 적용을 위한 ALD Al2O3 공정을 확보하는 것을 목표로 하였다. 먼저 Al2O3 를 증착하기 위하여 다양한 반응물을 이용한 저온 증착 공정을 확보하였다. 또한 막의 물리적, 화학적 분석을 위해 X-ray reflectivity (XRR) 이나 X-ray spectroscopy (XPS) 등의 분석을 통해 막의 밀도나 화학적 조성 등을 분석하여 막의 수분 차단막 특성과 비교분석을 진행하였다. 이와 동시에 여러가지 조건에서 성장된 Al2O3 박막의 WVTR 테스트를 진행하여 최적화된 OLED encapsulation 소재로써의 Al2O3 박막 공정을 확보하였다. |
| 저자 | 남태욱, 김형준, 김동현 |
| 소속 | 연세대 |
| 키워드 | 수분차단막; 원자층박막증착법; ALD; 반응물 |
