| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2012년 가을 (11/07 ~ 11/09, 라카이샌드파인 리조트) |
| 권호 | 18권 2호 |
| 발표분야 | F. 광기능/디스플레이 재료(Optical Funtional and Display Materials) |
| 제목 | Sputtering System으로 제조한 AZO 투명 전극의 신뢰성 향상 |
| 초록 | 정보화 시대로 인해 전자기기 시장이 부각되며 LCD, PDP 등 디스플레이 구조에 있어서 필수적인 투명 전극(TCO)의 수요가 증가하고 있다. 현재 TCO에는 ITO가 주로 사용되고 있으나, 희토류 금속인 In의 공급 및 환경적 한계성으로 인하여 ITO를 대체할 수 있는 AZO, IZO 등의 연구 개발이 활발하게 이루어지는 중이다. AZO(ZnO;Al-Aluminum doped Zinc Oxide)는 89% 내외의 가시광 투과도, 박막 형성시 100Ω/sq 정도의 저항을 나타냄으로서 TCO로 사용하기에 좋은 조건을 가지고 있으며, 원재료의 값이 ITO에 비해 월등히 낮으므로 ITO를 대체할 수 있는 투명 전극의 재료로 주목 받고 있다. 본 연구에서는 Magnetron Sputtering Process로 AZO 박막을 형성하였다. 초기 면저항 값이 44Ω/sq 정도로 낮게 제작된 것을 확인 하였으나, 시간이 경과함에 따라 형성된 전도막의 표면이 산화되어 면저항이 급격히 증가하는 현상으로 인해, 현재 상용화 된 ITO와 같은 100Ω/sq 이하의 면저항을 유지할 수 없었다. 따라서 박막 형성 시에 미량의 MgO를 첨가하여 표면의 산화를 억제시켜 낮은 면저항을 유지하는 실험을 진행하였다. MgO 첨가 AZO 박막의 면저항은 시간 경과와 무관하게 적정치(초기값의 10% 이내)를 유지하여, 시간 변화에 따른 안정성을 향상 시킴이 확인 되었으며, 가시광선 대역에서 85% 이상의 투과 특성을 확보하였다. |
| 저자 | 이인학1, 박영웅1, 정성학1, 최우석2, 임실묵1 |
| 소속 | 1한국산업기술대, 2(주) NT 쏠라글라스 |
| 키워드 | Sputtering system; 투명 전극; ITO; AZO; MgO |
