화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 1998년 가을 (10/23 ~ 10/24, 조선대학교)
권호 4권 2호, p.3737
발표분야 재료
제목 포지티브형 포토레지스트의 젤층 현상 모델
초록 본연구는 레지스트의 용해 메커니즘에 젤층을 도입함으로써 레지스트 표면 현상속도 지연효과에 대한 새로운 해석이 가능하게 하였으며, 이후의 젤층을 고려하는 실험들에 이론적 기반을 제공하였다.
저자 조준연, 최세진, 이승종
소속 서울대
키워드 Development; Surface Rate Retardation; Gel Layer
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