| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2021년 가을 (11/03 ~ 11/05, 대구 엑스코(EXCO)) |
| 권호 | 25권 2호 |
| 발표분야 | 포스터-화학공정 |
| 제목 | 초발수 필름연속생산을 위한 R2R나노 임프린트 공정장비 개발 |
| 초록 | 실리콘웨이퍼에 50㎛ 급의 패턴을 균일하게 전사시킬 수 있는 나노 임프린트 리소그래피 기술이 개발되면서 다양한 나노/마이크로 패터닝 기술과 응용 기술에 관한 연구가 수행되고 있다. 이러한 나노 임프린트 리소그래피 기술은 특히 하드디스크 드라이브, 나노 바이오센서, 기능성 나노 소자 및 기능성 디스플레이를 포함한 마이크로 렌즈, 광통신 부품 등의 분야에서 고집적도가 요구되면서 수십 ㎛ 수준의 초미세 형상을 대량으로 제작할 수 있는 기술개발이 요구되고 있다. 이에 본 연구에서는 폭 1,200mm의 기능성 필름의 연속 생산이 가능한 롤투롤 나노 임프린트 공정장비의 개발을 수행하였다. |
| 저자 | 허재국 |
| 소속 | 리텍 |
| 키워드 | 초발수 |
