| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2011년 가을 (10/06 ~ 10/07, 김대중 컨벤션센터) |
| 권호 | 36권 2호 |
| 발표분야 | 고분자가공/복합재료－나노카본 고분자 복합필름 |
| 제목 | FT-IR과 XPS를 사용한 UV 조사 폴리(페닐렌 설파이드) 필름의 구조변화 분석 |
| 초록 | 고성능 열가소성 엔지니어링 플라스틱 소재인 폴리(페닐렌 설파이드)(PPS)는 자외선에 노출되면 주쇄 사이에 가교결합이 도입되고 화학적 구조가 변하여 PPS의 특성에 영향을 주게 된다. 이러한 변화를 자세히 검토하기 위하여, PPS 필름을 제조한 후 여러 조건에서 자외선에 노출시키고 이들의 미세 구조 변화를 FT-IR과 XPS로 분석하였다. XPS 스펙트럼의 탄소, 산소 및 황 피크 변화를 분석하여 자외선 조사에 의해 PPS 주쇄에 산소가 도입되며, 도입된 산소는 벤젠링과 황을 산화시켜 생성되는 카르복시기와 술폭시드기에 기인하는 것을 확인하였다. FTIR 분석 결과에서도 이들 작용기들에 의한 피크가 나타났으며 이들 피크들의 세기는 자외선 노출시간이 길어질수록 증가하였다. 또한, 자외선 노출시간이 증가할수록 수소결합한 카르복시기에 의한 피크 세기도 증가하여 자외선 노출에 의해 PPS 주쇄에 형성된 작용기들이 서로 수소결합을 형성한다는 것을 알 수 있었다. |
| 저자 | 함명조1, 이준영1, 김영호1, 김정철2 |
| 소속 | 1숭실대, 2한국생산기술(연) |
| 키워드 | poly(phenylene sulfide) film; UV irradiation; XPS; FTIR |
