| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2010년 가을 (10/27 ~ 10/29, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 14권 2호 |
| 발표분야 | 고분자 |
| 제목 | Defect 감소를 통한 임프린트 패턴 전사율 향상에 관한 연구 |
| 초록 | 나노임프린트는 나노 패턴이 새겨진 스탬프에 PDMS로 반대 형상을 복제한 후, 레진이 도포된 기재에 찍어 스탬프에 새겨진 패턴을 복제하는 방식이다. 그러나 공정 중 발생하는 defect과 경화 후 수축율, demolding후 발생하는 이형 문제 등에 의해 PDMS에 복제된 형상대로 전사되지 않는 문제점이 발생한다. 따라서 이러한 문제를 해결하기 위하여 레진의 성분, thiol-ene 레진의 경도, 공정 조건, 표면처리 등을 변화시켜 가면서 패턴의 전사율을 확인하였다. 광경화 레진은 아크릴레이트와 thiol-ene 모노머를 이용하여 제조하였으며, spectroscopy와 DSC를 이용하여 경화 특성을, 경도와 점도 등을 통해 물성을 측정하였다. 그리고 임프린팅 중 발생하는 defect과 전사율은 SEM, AFM을, 스탬프와 레진의 표면 상태는 접촉각을 통해 확인하였다. 그리고 유연한 기판에 임프린팅하여 flexible 디스플레이에 적용 여부도 알아보았다. |
| 저자 | 박선희, 김성현, 송기국 |
| 소속 | 경희대 |
| 키워드 | photocurable polymer; spectroscopy; defect; imprint; PDMS |
