| 초록 |
최근 방사성동위원소 전지(nano-nuclear battery) 및 전자포획검출기로 사용 되고 있는 63Ni은 베타선 붕괴를 하며, 이때 방출되는 에너지 준위가 반도체 기판에 손상을 주지 않는 범위의 특성을 나타내고 있다. 또한 63Ni은 thermoluminescence dosimeter(TLD), 폭발물 탐지기, 유해가스 탐지기, microirradiator 등에도 사용되고 있다. 현재까지 방사성동위원소 63Ni 박막/후막을 제조하는 방법으로서 화학적 증착(chemical vapor deposition, CVD)방법, 물리적 증착(physical vapor deposition, PVD)방법, 무전해 도금, 전기 도금 등과 같은 여러 가지 방법이 제안되고 있다. 방사성동위원소를 사용하여 밀봉선원용 63Ni 박막/후막을 제조할 때는 hot-cell 작업, 방사성 물질 폐기처리 등의 제약 때문에 챔버 등의 오염을 방지하며, 가능한 한 단순한 제조 방법이 사용되어야 한다. 이에 63Ni과 같은 방사성동위원소 박막/후막의 밀봉선원을 제조 할 때는 주로 전기도금 방법이 사용되어 왔다. 63Ni을 이용하여 전기도금공정으로 63Ni 전기도금 박막을 제조하려는 연구는 63Ni이 포함된 염이 상업적으로 판매되지 않기 때문에 많은 어려움이 있는 실정 이다. 이에 본 연구에서는 63Ni의 전기도금이 일반 Ni을 사용한 전기도금공정과 동일한 방법으로 제조 할 수 있는 점에 착안하여 간접적으로 63Ni의 도금조건을 연구하였다. 이를 위하여 시판 중인 금속 Ni 분말을 적절한 산(acid)을 이용하여 용해하였으며, 본 그룹은 여러 가지 전기도금공정 변수에 따른 Ni 필름 특성에 대한 연구를 수행 하여 왔다. 본 발표에서는 2가지 다른 농도를 갖는 도금용액에서 첨가제(saccharin)가 잔류응력에 미치는 영향을 발표하고자 한다. |
