| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2003년 가을 (10/24 ~ 10/25, 한양대학교) |
| 권호 | 9권 2호, p.2053 |
| 발표분야 | 분체공학 |
| 제목 | SiO2용 TEOS/O2 플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실험적 분석 |
| 초록 | TEOS/O2용 플라즈마 반응기에서는 미립자들이 많이 생성되고 있으며, 미립자들은 플라즈마 공정 밖에서 유입되기보다 플라즈마 공정자체에서 생성, 성장되는 것으로 추측되고 있다. 미립자 오염에 의한 경제적 손실은 전세계적으로 볼 때 막대할 것으로 추측되고 있다. 공정 변수가 미립자 성장에 미치는 영향을 알아보기 위하여 반응기내 압력 변화와 유입되는 전체 기체 유량을 변화 시켜서 실험을 진행 하였다. 본 연구에서는 플라즈마 반응기 내부의 미립자 성장을 Cu Grid를 이용하여 TEM image로 미립자들의 모양과 크기를 관찰하였다. |
| 저자 | 홍성택, 김교선 |
| 소속 | 강원대 |
| 키워드 | TEOS/O2; plasma; TEM; particle size |
| 원문파일 | 초록 보기 |
