| 초록 |
산화 제1구리(copper(I) oxide, cuprous oxide, Cu2O) 박막을 RF(radio frequency) 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방법으로 유리 기판상에 다양한 공정 변수를 적용하여 제조하였다. 증착 압력(deposition pressure)과 기판 온도(substrate temperature) 및 후열처리(post-annealing) 조건에 따른 Cu2O 박막의 결정 구조(crystal structure)와 표면 형태(surface morphology), 화학양론(stoichiometry), 투과율(transmittance) 및 에너지 밴드 갭(energy band gap) 변화를 X-선 회절(X-ray diffraction, XRD), 전계-방출형 주사전자현미경(field emission scanning electron microscope, FE-SEM), X-선 광전자 분광법(X-ray photoelectron spectroscopy) 및 자외선-가시광선-근적외선 분광기(UV-Vis-NIR spectrometer)로 조사하였다. XRD와 FE-SEM, XPS, 그리고 투과율에 대한 분석 결과, Cu2O 박막의 구조적(structural), 조성적(compositional) 및 광학적(optical) 특성이 후열처리 조건에 비해 증착 압력과 기판 온도에 더 많이 의존하는 것을 확인하였다. |
