| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (05/21 ~ 05/22, 무주리조트) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 전자재료 |
| 제목 | 저유전율 TFT Passivation Layer 응용을 위한 Fluorinated Methacrylate hybrimer의 제조 |
| 초록 | 유기 실란의 간단한 솔-젤 축합 반응으로 제조되는 Fluorinated methacryl oligosiloxane 수지의 광경화로 제조되는 Fluorinated methacrylate 하이브리드 재료(FM Hybrimer)는 매우 투명하고, 열 안정성이 우수하고, 우수한 평탄화 적층이 가능하며, 특성 조절이 용이하여 광 소재로 응용되어 왔다. 본 연구에서는 FM Hybrimer의 passivation layer로의 응용을 위해 전기적 특성을 평가하였다. 우수한 전기적 특성을 위해서, 제조되는 oligosiloxane 수지 축합도와 광경화에 의한 가교 정도를 최대화 하도록 공정을 최적화 하였다. 제조된 FM Hybrimer 코팅막은 1Mv/cm 에서 20nA/cm2 정도의 낮은 누설전류를 가지고, 1MHz에서 0.02정도의 낮은 loss tangent를 가지며, 유전율은 Fluorine 함량이 증가할수록 감소하여 2.5까지 낮출 수 있어서 우수한 저유전율 TFT passivation layer로의 응용이 가능하다. |
| 저자 | 오지훈, 진정호, 양승철, 배병수 |
| 소속 | KAIST |
| 키워드 | 솔-젤 하이브리드 재료; Passivation layer; 저유전율; 누설전류 |
