| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2005년 봄 (04/22 ~ 04/23, 여수대학교) |
| 권호 | 11권 1호, p.212 |
| 발표분야 | 공정시스템 |
| 제목 | Langmuir probe를 이용한 Plasma 특성 진단 |
| 초록 | 반도체 제조공정에서 박막의 식각 및 증착에 필수적으로 적용되는 저온 플라즈마의 특성진단은 일반적으로 측정회로 및 원리가 비교적 간편하고, 실용적인 langmuir probe이 널리 사용되고 있다. 웨이퍼의 표면을 균일하게 가공하기 위해서는 플라즈마 공정에서 중요한 역할을 하는 플라즈마(전자 및 이온) 밀도, 전자 온도, 플라즈마 전위 등과 같은 플라즈마 특성이 플라즈마 챔버의 중심에서 반경방향으로 균일하게 유지되어야 한다. 본 연구에서는 플라즈마 챔버에 삽입된 langmuir probe의 위치를 챔버의 중심에서 반경방향으로 이동시키며 플라즈마 특성의 공간적인 분포를 측정하고 압력과 인가된 전력과의 상관관계를 도출하여 플라즈마 공정조건을 최적화하고자 한다. ※ 본 연구는 한국과학재단 지정 지역협력연구센타인 호서대학교 반도체 제조장비 국산화 연구센터의 연구비 지원에 의해 수행 되었습니다. |
| 저자 | 황일선, 김헌창 |
| 소속 | 호서대 |
| 키워드 | plasma; langmuir probe |
| 원문파일 | 초록 보기 |
