| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2010년 봄 (05/13 ~ 05/14, 삼척 팰리스 호텔) |
| 권호 | 16권 1호 |
| 발표분야 | C. Energy and the Environment(에너지 및 환경재료) |
| 제목 | 반도체 스퍼터링 공정 중 발생하는 폐 타겟으로부터 저순도 인듐 및 갈륨 분말의 재활용 기술개발 |
| 초록 | 전자제품의 수요와 생산량의 급증에 따라 전자제품에 사용되는 유가금속의 양도 증가하고 공정 중 발생되는 폐 스크랩 량도 꾸준히 증가하는 추세이다. 그 중 디스플레이 산업, 태양광산업의 지속적인 발전으로 투명 전도막 (ITO)의 원료 물질인 인듐(In) 및 화합물 반도체의 원료인 갈륨의 수요 증대함에 따라 공정 중에 발생하는 폐 스크랩 량도 급증하고 있다. 각각의 스크랩은 공정 및 종류에 따라 적게는 2% 이하에서 많게는 70% 이상까지 매우 다양한 형태로 존재하는데, 고품위 스크랩을 제외하고는 전량 외국으로 수출하고 있는 실정이어서 인듐 및 갈륨 스크랩의 재활용 기술 개발이 필요한 실정이다. 본 연구에서는 반도체 공정 중에 발생하는 저순도 인듐 및 갈륨 스크랩을 출발물질로 하여 물리적인 선별공정을 통해 고순도화 및 분리효율의 증대 방안에 대해 연구하였다. 인듐 스크랩의 경우 Al2O3가 주성분이며, 인듐은 산화물 형태로 존재하였고, 갈륨 스크랩의 경우 대부분 산화물 형태로 존재하였고 약간의 인을 포함하고 있었다. 본 연구에서 적용한 선별공정으로는 분급기술(cyclone) 및 습/건식 혼합공정을 사용하였다. 인듐, 갈륨 스크랩의 특성을 분석하였고 각 공정에 따른 스크랩의 인듐, 갈륨 함량을 분석하여 물리적 선별공정에 대한 효율성을 고찰하였다. |
| 저자 | 김건홍1, 정항철1, 공만식1, 홍현선1, 우상모2 |
| 소속 | 1고등기술(연), 2(주) 나인디지트 |
| 키워드 | ITO; 인듐; 폐 타겟; 갈륨; 공기분급 |
