| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/09 ~ 05/10, 한양대학교(안산)) |
| 권호 | 12권 1호 |
| 발표분야 | 나노기술 |
| 제목 | 초임계 이산화탄소를 이용한 건식 에칭의 공정조건 및 첨가제 배합에 따른 에칭 특성 |
| 초록 | 반도체 산업에서 습식 공정에 의한 미세 구조물의 붕괴현상은 패턴 집적화에 큰 영향을 미친다. 습식 에칭 공정은 에칭 용액의 표면 장력과 점성 및 확산성의 한계로 구조물의 하부까지 침투하기 어렵고 에칭 이후 세정 및 건조 과정에서 모세관 힘에 의한 구조물의 붕괴 현상을 야기시킨다. 초임계 이산화탄소는 낮은 표면 장력, 점성, 밀도 및 높은 확산성을 가지고 있어 이에 대안을 제시하고 환경친화적인 이점을 가져다 준다. 본 연구에서는 초임계 이산화탄소를 사용하여 희생막인 BPSG(Borophospho Silicate Glass), P-TEOS(Tetra Ethoxy Silane), Thermal Oxide film과 에칭방지막인 SiN film을 투 챔버 시스템에서 건식 에칭하여 공정조건과 공용매 사용에 따른 에칭 특성을 조사하였다. |
| 저자 | 정재목, 배재현, 임권택 |
| 소속 | 부경대 |
| 키워드 | 초임계 이산화탄소; 에칭; 희생막; 선택성 |
