| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/09 ~ 05/10, 한양대학교(안산)) |
| 권호 | 12권 1호 |
| 발표분야 | 정보전자소재 |
| 제목 | 하드 마스크(Hard mask) 제작을 위한 TiN 박막의 증착에 관한 연구 |
| 초록 | 현재 반도체공정에서는 식각 속도가 낮은 박막들을 식각할 경우에 식각선택도가 낮은 photoresist 마스크를 대체하여 하드 마스크가 사용되는 데 이때 TiN 박막도 식각의 하드마스크 물질로 이용되고 있다. 본 연구에서는 TiN의 이러한 특성을 이용하여 여러 가지 반도체 소자를 구성하는 금속이나 금속산화물 박막들을 식각할 때 고밀도 플라즈마에 잘 견딜 수 있는 TiN 하드 마스크(hard mask)에 대한 증착공정을 개발하고자 한다. 이를 위하여 radio-frequency (rf) magnetron sputtering system을 이용하여 N2 가스의 유량, 공정압력, rf power 를 변화시켜 TiN 박막의 증착 특성을 조사하고 최적 증착 조건을 얻고자 하였다. |
| 저자 | 이도영, 정지원 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | titanium nitride; radio-frequency (rf) magnetron sputtering |
