| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2009년 봄 (04/09 ~ 04/10, 대전컨벤션센터) |
| 권호 |
34권 1호 |
| 발표분야 |
고분자 구조 및 물성 |
| 제목 |
고분자 박막의 wetting 특성 제어를 통한 나노패턴 어레이의 형성 기술과 LSPR sensing에의 응용 |
| 초록 |
기존의 임프린트 리소그라피의 경우 고온, 고압의 공정 조건 및 값비싼 주형재료가 요구된다. 이를 극복하기 위해 본 연구에서는 rigiflex 리소그라피 공정을 이용하여 수백 나노~수 마이크로 미터 크기의 고분자 어레이 패턴을 형성하고, 이러한 어레이 패턴의 크기와 배열을 고분자와 기판간의 wetting 특성을 제어하는 방법을 제시하고자 한다. 고분자가 코팅된 박막은 나노패턴 어레이가 구축된 복제몰드를 접촉시켜 고분자의 유리전이온도 이상으로 처리하여 어레이 패턴박막을 구현할 수 있다. 이러한 패턴에서 복제몰드를 제거한 후, 다시 열처리를 하여 고분자 박막과 기판간의 상호친화성 특성에 따라서 wetting 혹은 dewetting 현상을 유발시켜 형성된 패턴어레이의 크기 조절이 가능하다. 따라서 수백 나노미터 크기의 패턴 몰드를 이용하여 100nm 혹은 그 이하 크기의 나노패턴을 제작할 수 있으며, 여기에 금속 증착 공정을 통해서 제작된 제작된 금 나노패턴 어레이는 그 표면을 특정한 생체물질이 항원-항체 반응을 통해 결합될 수 있도록 활성화 시킨후 생체물질의 결합 유무에 따라 LSPR의 광학 센서로 활용할 수 있다. |
| 저자 |
박동규1, 김혜인1, 유필진2
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| 소속 |
1성균관대 화학공학과, 2성균관대 화학공학과 / 성균관대 나노과학기술원 |
| 키워드 |
LSPR; patterning; polymer wetting
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| E-Mail |
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