화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2004년 가을 (10/29 ~ 10/30, 호서대학교(아산캠퍼스))
권호 10권 2호, p.2104
발표분야 재료
제목 SiO2/TiO2 나노 적층입자의 합성
초록 TiO2는 빛의 산란능력이 커서 백색 안료뿐만 아니라 페인트 제조 시 조색제로서 없어서는 안될 원료이며 TiO2의 상에 따라서 전극재료, 각종 유기물을 광분해 하는 광촉매 그리고 자외선을 차단하는 효과로 인해 화장품 용도로도 쓰이고 있다. 이러한 TiO2는 SiO2와 복합화 함으로써 단독 물질로서 비싼 비용을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 고온에서도 높은 비표면적을 유지할 수 있다. 본 연구에서는 Stöber 방법을 이용해 단분산의 SiO2 입자를 제조하고 여기에 TiO2를 코팅하여 SiO2/ TiO2 적층 입자를 제조하였다. 특히, HPC를 분산제로 사용하고 reflux를 활용하여 응집이 없이 균일하게 코팅하는 방법에 대해 살펴보았다. 우선 420 nm 정도의 구형의 SiO2 입자를 Stöber 방법에 의하여 합성하였다. SiO2 를 에탄올에 분산시킨 후 일정량의 HPC와 증류수를 넣어 혼합한 후 에탄올에 용해시킨 TBOT(tetrabuthylortho titanate)를 마이크로 펌프를 이용하여 조절된 주입속도로 주입하여 가수분해 반응과 축합 반응을 조절하여 TiO2를 SiO2 표면 위에 코팅하였다. 코팅된 적층입자는 reflux를 통해 좀더 SiO2 표면과 TiO2입자 사이의 결합을 단단하게 하였고 응집이 적은 적층 입자를 얻을 수 있었다. SiO2 입자 표면에 TiO2 가 코팅된 것은 직접적인 방법으로 SEM과 TEM을 이용하였으며, 간접적인 방법으로 XRD, BET, FT-Raman, EDX, Zeta-potential 등을 이용하여 확인하였다.
저자 이재원, 홍경화, 김우식, 김진수
소속 경희대
키워드 HPC; coreshell; SiO2/TiO2; TiO2
E-Mail
원문파일 초록 보기