| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2004년 봄 (04/23 ~ 04/24, 공주대학교) |
| 권호 | 10권 1호, p.919 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Preparation of HfN Thin Film by Plasma Assisted Atomic Layer Deposition using tetrakis(dimethylamino)hafnium |
| 초록 | 구리의 확산방지막으로 사용가능성을 살펴보기 위하여 유기금속 전구체를 이용하여 HfN 박막을 제조 그 특성들을 평가하였다. 공정은 플라즈마 원자층 증착법을 사용하였고 전구체는 TDMAHf(tetrakis(dimethylamino)hafnium)을 사용하였다. 평가된 공정 변수로는 증착온도(150∼ 300℃), 전구체 주입시간, 플라즈마 노출시간, 플라즈마 파워 및 플라즈마 가스 조성이였다. |
| 저자 | 김은정, 김도형 |
| 소속 | 전남대 |
| 키워드 | 원자층 증착법; 확산 방지막 |
| 원문파일 | 초록 보기 |
