화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2002년 봄 (04/12 ~ 04/13, 서울대학교)
권호 27권 1호, p.105
발표분야 고분자 구조 및 물성
제목 TEM 시료의 RuO4 및 OsO4를 이용한 최적 염색조건에 관한 연구
초록 투과전자현미경(TEM)용 고분자 시료의 제조를 위해, RuO4 및 OsO4 염색제의 농도와 염색 시간에 따른 염색 효과의 변화 및 표면에 침투된 염색 깊이에 관하여 관찰하였다. RuO4는 NaIO4 과포화 수용액에 RuO2·xH2O를 반응시켜서 제조하였다. Ultramicrotome을 사용하여 polystyrene 및 polyisoprene을 약 80nm 두께의 초박막을 제조하였으며, 염색층 단면의 초박막을 제조하여 침투된 염색제의 깊이를 관찰하였다. TEM에 부착된 energy dispersive X-ray spectroscopy를 이용하여 Ru 원소에 관한 특성 X-ray 분석을 하여 염색 조건의 변화에 따른 염색효과를 정량적인 값으로 나타내었다. 그 결과, 염색제의 농도와 염색 시간의 변화에 따라서 TEM 이미지의 콘트라스트 및 침투깊이가 크게 영향을 받는다는 것을 확인하였다. 본 연구를 통하여 최적의 이미지 콘트라스트 부여를 위한 염색제의 농도 및 염색 시간 및 침투 깊이를 정량적으로 확인하여 상관관계를 규명하였으며, 본 연구 결과는 상분리 구조를 포함하는 블렌드, 공중합체등의 미세구조 규명에 매우 유용하게 활용할 수 있을 것으로 기대된다.
저자 남창우, 안흥용, 인교진
소속 강원대
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