화학공학소재연구정보센터
학회 한국재료학회
학술대회 2017년 가을 (11/15 ~ 11/17, 경주 현대호텔)
권호 23권 2호
발표분야 F. 광기능/디스플레이 재료 분과
제목 RF 스퍼터링으로 증착된 n-ZnO 박막의 두께에 따른 특성
초록 본 연구에서는 RF 스퍼터링법으로 Si (100), Si (111) 및 (002) Al2O3 기판 위에 ZnO를 서로 다른 두께로 증착시켜 구조적, 전기적 및 광학적 특성을 조사하였다.

   먼저 ZnO 박막을 성장시키기 위해 HF와 DI Water를 1 : 10 으로 희석한 용액으로 기판의 산화막을 제거하였다. RF 출력과 기판온도를 각각 200W와 200 ℃로 일정하게 하고, Ar 가스를 50 sccm으로 주입하여 공정압력을 5 torr로 유지하였다. ZnO는 100, 200, 500, 700, 1000 nm의 두께로 증착시켰다. 이와 같이 증착된 ZnO 박막의 특성은 X선 회절분석 (XRD)와 주사전자현미경(FE-SEM),  Hall Effect, 광루미네센스(PL) 및 Raman 등을 측정하여 평가하였다.

  증착된 박막의 두께가 증가함에 따라 XRD 회절선 강도가 증가하고 반치폭은 감소하였으며, 막 내의 캐리어 농도는 증가하였고 비저항 값은 감소하였다. 또한 PL 발광강도가 증가하였고 반치폭이 감소하였다.
저자 유준웅, 한승수, 김선태, 변창섭
소속 한밭대
키워드 ZnO; n-ZnO/p-Si; XRD; PL;  Hall Effect;  FE-SEM 
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