| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2014년 가을 (11/12 ~ 11/14, 엑스코(대구)) |
| 권호 | 18권 2호 |
| 발표분야 | 무기재료-포스터 |
| 제목 | 템플레이트를 사용하지 않는 유-무기 실리카 중공입자의 제조 |
| 초록 | 실리카 중공입자는 화학적, 열적으로 안정성을 가지며, 독성이 낮고 넓은 비표면적과 낮은 밀도를 갖는다. 실리카 중공입자는 내부가 비어있는 구형의 특이한 구조와 성질로 인해 약물 전달이나 복합 재료, 염료, 단열재 등 다양한 분야에서 응용하기 위한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 일반적으로 알려진 실리카 중공입자의 제조 방법은 고분자 라텍스를 템플레이트로 이용하여 구형의 고분자 표면에 실리카 입자를 합성하고 하소(calcination)를 통하여 내부의 템플레이트를 제거하여 중공 입자를 제조하는 것이다. 템플레이트를 사용하는 방법을 통해 입자를 제조할 경우 균일한 크기를 갖는 단분산성의 입자를 제조하기에 유리하지만 입자를 제조한 후에 템플레이트나 계면활성제를 제거하는 과정을 거쳐야 실리카 중공입자를 얻을 수 있다. 본 연구에서는 페닐트리메톡시실란을 전구체로 이용하여 템플레이트를 사용하지 않는 방법으로 입자를 제조하였다. 이는 수용액 상에서 구형의 실리카 입자를 제조하고 입자의 내부를 선택적으로 녹일 수 있는 용매에 분산시켜 중공입자를 제조하는 방법으로, 템플레이트를 사용하는 중공입자 제조법보다 간단한 과정을 통해 중공입자를 제조할 수 있다. 기존의 제조 방법과는 달리 템플레이트를 이용하지 않는 본 연구에서는 다양한 변수들을 통해 입자의 크기와 모폴로지, 중공의 크기를 제어할 수 있다. |
| 저자 | 정규일, 구상만 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | hollow; silica; PTMS; 중공; 실리카 |
