| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2021년 봄 (05/12 ~ 05/14, 광주 김대중컨벤션센터) |
| 권호 |
27권 1호 |
| 발표분야 |
C. 에너지 재료 분과 |
| 제목 |
스퍼터링 법으로 제조된 Cu2O 박막의 구조적 및 광학적 특성에 대한 공정 압력의 영향 |
| 초록 |
RF(radio frequency) 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 법으로 산화구리(I)(cuprous oxide, Cu2O) 박막을 상온(room temperature)에서 유리 기판상에 제조하였고, 각기 다른 공정 압력(working pressure)에서 성장한 Cu2O 박막의 특성 변화를 알아보았다. 구조적 특성은 X-선 회절(X-ray diffraction, XRD), 라만 분광법(Raman spectroscopy), 전계 방출형 주사 현미경(field emission scanning electron microscopy, FESEM)으로 관찰하였다. 광학적 특성은 자외선-가시광선-근적외선 분광 광도계(UV-VIS-NIR spectrophotometer)를 사용하여 400nm에서 1600nm의 파장 범위를 갖는 투과율을 측정한 후 타우 작도(Tauc plot) 법으로 에너지 밴드 갭(energy band gap)을 계산하여 분석하였다. XRD 분석 결과, 서로 다른 공정 압력 조건(1mTorr~15mTorr)에서 성장한 모든 Cu2O 박막에서 (111)면 우선 성장 방향(preferential orientation)과 입방정계(cubic) 결정구조를 확인하였다. 투과율 데이터를 기반으로 산출한 에너지 밴드 갭은 공정 압력이 1mTorr(0.14Pa)에서 15mTorr(2.0Pa)로 높아짐에 따라 소폭 감소하는 경향을 보여주었다. |
| 저자 |
박정환, 김민성, 한태구, 김나경, 남기원, 황동현, 손창식
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| 소속 |
신라대 |
| 키워드 |
Cu<SUB>2</SUB>O; Thin film; RF magnetron sputtering; Working pressure; Solar cell
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