| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2009년 봄 (05/21 ~ 05/22, 무주리조트) |
| 권호 | 15권 1호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | Nano-scale Patterning by Imprint Lithography Using Ni stamp |
| 초록 | NIL (Nano-Imprint Lithography) 공정기술은 나노 구조물 제작 및 소자 개발에 있어서 저가의 비용으로 대량생산이 가능한 경쟁력 있는 제작 공정으로써 많은 관심을 받고 있다. 본 연구에서는 NIL공정에 있어 가장 중요한 Nano master를 제작하기 위하여 EBL (Electron beam lithography) 장비를 이용하였다. EBL은 Photo-optical lithography 보다 우수한 분해능으로 복잡한 device 제작이 용이하기 때문에 mask없이 lithography를 할 수 있는 장점을 가지고 있어 현재 널리 사용되어진다. 제작된 master를 이용하여 Ni stamp를 제작하였다. 먼저 seed layer인 Au를 10nm 코팅하였고, 전해도금법으로 1step: 2 mA/cm2에서 2 hr, 2step: 10 mA/cm2의 전류밀도로 24 hr동안 Ni도금을 진행을 하였다. 제작된 Ni stamp를 이용하여 Press Pressure 15MPa, Press Time: 5min에서 임프린트 공정을 진행하였으며, SEM (Scanning Electron Microscope)을 이용하여 형성된 패턴을 확인하였다. |
| 저자 | 김남정, 박정갑, 김택유, 장재권, 주범석, 이창형, 장주희, 최우성, 서수정 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | NIL (Nano-Imprint Lithography); EBL (Electron beam lithography); Ni stamp |
