화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2000년 가을 (10/20 ~ 10/21, 포항공과대학교)
권호 6권 2호, p.4533
발표분야 재료
제목 FRAM 소자 응용을 위한 SrBi2Ta2O9 박막의 고밀도 플라즈마 식각
초록 최근 비휘발성 메모리 소자로 FRAM이 각광을 받고있다. FRAM의 재료로써 PZT가 많이 연구되었으나 PZT는 전계인가횟수의 증가에 따라 피로현상이 심각해지기때문에 새로운 재료로써 SBT가 떠오르게 되었다. 아직 SBT의 식각 특성에 대한 연구는 많은편이 아니며 본 연구에서는 ICP를 이용하여 식각가스의 조성과 여러 플라즈마 파라미터들이 SBT의 etchrate에 미치는 영향을 연구및 분석하였다.
저자 박진수, 임연호, 최창선, 한윤봉
소속 전북대
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