| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2007년 가을 (11/02 ~ 11/02, 성균관대학교) |
| 권호 |
13권 2호 |
| 발표분야 |
반도체재료 |
| 제목 |
Al2O3/Si (100) buffer layer위에 증착된 ZnO 박막의 후속 열처리에 따른 특성 변화 |
| 초록 |
본 연구에서는 Si(100) 기판위에 ALD(atomic latyer deposition) 방법으로 Al2O3 buffer layer를 증착한 후 그 위에 ZnO 박막을 역시 ALD 방법을 이용하여 증착하였다. ZnO 박막 성장 후 후속 열처리에 따른 Al2O3/Si(100) 위에 증착된 ZnO 박막의 특성을 관찰하기 위해 열처리 온도와 열처리 가스 종류 (N2, Ar, O2)를 변화시키며 특성을 관찰하였다. 후속 열처리 조건에 따른 ZnO 박막의 특성은 PL(photoluminescence), hall effect measurement, AFM(atomic force microscope) 그리고 XRD(x-ray diffraction) 등의 방법을 통하여 평가하였다. |
| 저자 |
김초롱, 이재엽, Zhao Xiuqin, 임재영, 류혁현
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| 소속 |
인제대 |
| 키워드 |
ZnO; ALD; buffer layer; Al2O3; 박막
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