| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2008년 가을 (11/12 ~ 11/14, ICC 제주) |
| 권호 | 12권 2호 |
| 발표분야 | 촉매 |
| 제목 | 광촉매 반응에서의 하이드로페록시라디칼/슈퍼옥사이드라디칼의 물리화학적 특성 |
| 초록 | 최근 광촉매 반응에 대한 이해가 점진적으로 이루어지면서 정공(hole, h+)과 수산화라디칼(hydroxyl radical, OH) 이외의 라디칼 화학종들의 역할에 주목하게 되었다. 특히, 산소분자가 전자(electron, e-)와 반응하여 생성되는 하이드로페록시라디칼(hydroperoxyl radical, pKa = 4.8)은 정공-전자간의 재결합의 가능성을 감소시켜 광촉매의 성능을 개선할 수 있기 때문에 매우 중요한 라디칼 화학종으로 인식되어 왔다. 그러나 종래의 연구결과는 광촉매 표면에서 생성된 슈퍼옥사이드라디칼이 광촉매 표면에 흡착된 형태로만 반응에 참여하는 것으로 알려져 왔으나, 아직까지 구체적인 연구결과가 제시된 바는 없다. 이러한 점에서 본 연구는 유사 펜톤반응과 형광검출법을 이용하여 생성된 하이드로페록시라디칼이 광촉매의 표면으로부터 탈착되는 현상을 관찰하였으며, 이와 관련된하이드로페록시라디칼의 물리화학적 특성을 규명하는 실험적인 시도를 또한 수행하였다. |
| 저자 | 권범근, 윤제용, 박희진 |
| 소속 | 서울대 |
| 키워드 | 광촉매; 하이드로페록시라디칼; 슈퍼옥사이드라디칼 |
