| 초록 |
실리카는 반도체, 세라믹의 재료로서 그리고 화학공정의 촉매의 담체로쓰이는 중요한 산업소재이다. 이 소재의 가공, 세정 그리고 반응 중의 표면성질에 관심이 집중되고 있으며 많은 연구들이 수행되어 오고 있다. 본 연구를 기초로 우주왕복선의 절연체 타일의 코팅으로 사용되는 실리카 위에서의산소, 수소, 질소 원자의 표면 재결합 반응에 대한 연구를 지속한다면 실리카와 같은 비활성 물질의 표면 반응을 이해하고 이 반응을 억제함으로써 타일의두께를 줄여 비행 궤도와 비행체의 중량을 가볍게 할 수 있다. 또한, 촉매의담체인 실리카, 알루미나, 구리, 철 등의 표면 위에서의 원자들의 표면 확산현상 메커니즘을 규명하고 이해함으로써 표면 거동을 이해할 수 있으며, 반도체의 경우 실리콘 웨이퍼의 수소 플라즈마에 의한 건식 세정 공정에서 수소 원자를 이용해 불순물 제거 과정을 이해할 수 있다. 이와 같이, 재결합 반응에대한 활성점의 성질을 이해하여 보다 나은 타일 코팅 재료, 실리콘 웨이퍼 세정 공정, 촉매 설계 등에 필수적인 기초 자료를 제공하게 될 것이다.본 연구에서는 십자형 확산 반응기에 삽입할 수 있는 SiO2관을 설치하여 RF플라즈마의 에너지원으로 원자를 생성하게 된다.다양한 표면 상태에서 재결합이 일어날 때 발생하는 열의 온도 차이를 double probe thermocouple를 사용하여 측정하여 환산하고, 거리에 따른 온도 차(ΔT)를 이용해 각각의 표면에 따른 원자 재결합 확률값을 얻게 된다. |
