| 초록 |
NiCr(80:20) 합금 타겟으로 DC 마그네트론 Sputter를 사용하여 Al2O3/Si 기판위에 NiCr 박막을 증착하였다. 사용된 기판은 (100)방향성을 갖는 P형 실리콘 단결정 위에 E-beam evaporation법으로 Al2O3 소결체를 증착시켜 제조하였다. 증착된 NiCr 박막의 미세구조에 따른 막의 특성변화를 고찰하였으며, 증착온도와 열처리 온도에 따른 NiCr박막의 상변화, 조성 변화 및 미세구조 변화를 XRD(X-ray diffraction), FESEM(Field emission scanning electron microscope), AES(Auger electron spectroscope) 분석을 통하여 관찰하였다. NiCr 표면특성은 증착온도와는 무관하게 거의 비슷하게 나타났으며, 열처리 분위기에 따라 영향을 받는다는 것을 알 수 있었다. 공기중에서 열처리한 시편들은 균일한 입자분포와 치밀한 미세구조를 갖는 반면 수소분위기에서 열처리한 시편들은 표면에 조대한 결정립 성장이 이루어짐을 알 수 있었다. 이러한 특징들은 증착된 NiCr 박막의 표면에 산화층의 형성 유무와 밀접한 관련이 있는 것으로 생각된다. |
