| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2005년 봄 (05/26 ~ 05/27, 무주리조트) |
| 권호 | 11권 1호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | 핫 엠보싱 공정을 이용한 플렉시블 기판 나노 패터닝 |
| 초록 | Hot embossing Imprint Lithography란 고분자를 유리전이온도 이상으로 가열하여 soft하게 만든 후에 stamp로 눌러서 나노패턴을 각인하는 방법이다. Hot embossing type의 나노임프린트 리소그래피 기술은 대부분의 열가소성 고분자에 응용이 가능하다. 여러가지 열가소성 고분자중에 현재는 PET film 자체를 패터닝하지는 않고 단지 substrate의 역할로만 사용하고 있지만 PET film을 저온에서 나노 단위로 패터닝할 수 있으면 유기EL, 유기반도체등의 공정에 크나큰 영향을 미칠수 있을 있다. 이 실험에서는 PET film 및 PVC film을 hot embossing 방법을 통하여 나노패터닝하였다. 스탬프는 최소 100nm pitch 크기의 line 패턴이 있는 실리콘 Stamp를 사용하였고, 실험전처리 과정으로 trisiloxane 계열의 SAM(Self-Assembled Monolayer)를 코팅하여 임프린트후 PET film과 Stamp가 잘 떨어지도록 하였다. 이 후 (주)NND의 Press-vessle type의 imprint 장비를 이용하여 진공상태에서 PET film을 120℃의 온도와 20 bar의 압력을 가해 SAM coating 된 Stamp를 PET film에 눌러서 나노 패턴을 전사시켰다.이러한 공정 과정을 통해 PET film에 직접적으로 나노패턴을 전사하였고 나노패턴 형성후에 광흡수율등 PET film의 기능적 특성을 측정한 결과 전혀 변화가 없음을 확인하였다. |
| 저자 | 홍성훈, 양기연, 이헌 |
| 소속 | 고려대 |
| 키워드 | Hot embossing; Nanoimprint Lithography |
