| 초록 |
나노 패턴은 차세대 디스플레이, 고기능성 바이오 소자, 및 고효율 태양전지 산업에서 높은 광학적 특성 또는 초소수성 표면 물성 제어용으로 주목 받고 있다. 현재까지 유리 기판 위에서 패턴을 제작하는 방법으로 연구되고 있는 습식 식각, 건식 식각, 그리고 레이저 가공 등은 각각 가공 정밀도, 고가의 장비, 및 낮은 생산성등의 단점을 극복하지 못하고 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 미세 pattern을 제조하기 위한 차세대 공정 기술들 중 하나인 나노 임프린트 기술은 다양한 모양의 pattern을 손쉽게 복제할 수 있는 비 광학 pattern 방식으로써 나노 기술과 접목되어 나노미터 크기의 pattern을 제작할 수 있고, 수 mm사이즈의 대면적 pattern까지 손쉽게 복제할 수 있는 patterning 기술로 주목을 받고 있다. 따라서 본 논문은 나노임프린트 공정 기술 및 리프트오프 패터닝 공정을 활용하여 유리 기판 위에서 노 크기의 구조물 패턴을 형성하는 방법에 대해서 연구하였다. 나노 임프린트 공정을 위해 금형 stamp로 Hot embbossing PVC stamp를 제작하였고, UV 레진을 사용하여 50 nm 높이 및 200 nm 폭의 크기를 갖는 Ga이 도핑된 ZnO 나노 패턴을 성공적으로 제작하였다. 그 결과 나노 패턴의 배열 형성에 따른 광학적 특성의 개선을 관찰하였다. |
