화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2004년 봄 (04/09 ~ 04/10, 고려대학교)
권호 29권 1호, p.290
발표분야 복합재료
제목 Fabrication of Magnetic Particle Arrays using Geometrically Confined Block Copolymer Template
초록 최근 메모리 소자의 소형화 추세에 따라 보다 작은 자성 물질의 패턴 형성이 요구되고 있다. 하지만 일반적인 광 식각 공정으로는 100nm 이하의 패턴 형성이 쉽지 않으며 E-beam 식각 공정은 많은 돈과 시간이 소요되는 문제점이 있다. 고분자 공중합체는 둘 혹은 그 이상의 폴리머가 공유 결합에 의해 연결되어 있으며 각 사슬의 길이 비에 따라 다양한 종류의 몰폴로지를 형성할 수 있다. 특히 얇은 박막 형태의 육방정 구조 공중합체는 금속과 같은 물질을 증착하거나 식각을 위한 마스크로 활용될 수 있다. 본 연구에서는 PS-PMMA(분자량비 10:1)와 CMF(Cohesive Mechanical Failure) 공정을 사용하여 패턴화 되지 않은 상태보다 더 규칙적인 육방정 구조의 홀을 생성하고 뒤 이은 식각 공정을 통해 자성 입자의 배열을 만들었다.
저자 장세규, 최대근, 양승만
소속 한국과학기술원 생명화학공학과
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